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アルミセラミック基板_半導体セラミック部品
アルミセラミック (Al₂O₃) 基板_半導体セラミック部品とノズルは、その優れた電気的、熱的、機械的特性により、ディスペンサー装置や電子発電機部品などの半導体プロセス装置に広く使用されています。 アルミセラミック基板は、非常に優れた電気絶縁性と高い熱伝導性を有しており、半導体産業において非常に重要な役割を果たしています。
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窒化アルミニウムウェハー
当社の標準窒化アルミニウムウェハーの直径は50.8mmから200mmまであり、最も一般的に使用されているのは、6インチ窒化アルミニウムウェハーと8インチ窒化アルミニウムウェハーです。 窒化アルミニウムウェハーは、0.125mmから1mmまでのさまざまな厚さ、研磨または研削された側面で製造することができ、特注サイズまたはお客様の要件に合わせて供給することができます。
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サンドミル用セラミック部品
当社のジルコニアセラミックス及び炭化ケイ素は、分散ディスク、ミルカートリッジ、タービン及びロータを含む砂研磨装置のための様々な部品です。