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バッテリー冷却システムにおけるセラミック放熱の応用

現在、電力バッテリーシステムの熱管理は、主に自然冷却、空冷、液冷、直接冷却の 4 つのカテゴリに分けられます。

 

これらのうち、自然冷却は受動的な熱管理方法であり、空冷、液冷、直冷は能動的な方法です。これら3つの主な違いは、熱交換媒体の違いです。

 

従来のバッテリー冷却システム:バッテリーコアと冷却システム間の温度差を変えるには、液体冷却システムによる冷却が最も有効な方法です。

 

セラミック放熱はバッテリーの放熱にどのように適用されますか?

熱伝導率の低い絶縁プラスチック材料を、熱伝導率の高いセラミック材料に置き換えます。

Aluminum Nitride Ceramic Substrate

研究によれば、セラミックの高い熱伝導性と高い断熱性を利用することで、急速な放熱と温度均一化が達成できることがわかりました。 Aluminum nitride ceramic substrates are currently used more frequently.

 

窒化アルミニウムセラミック基板の利点

窒化アルミニウムセラミック基板は、高い熱伝導率、低い膨張係数、高強度、耐高温性、耐薬品性、高い抵抗率、低い誘電損失を特徴としています。大規模集積回路(LSI)の放熱基板およびパッケージング材料として最適です。

 

1. 高い熱伝導率

窒化アルミニウムセラミックスは、理論値で最大320W/m·Kという非常に高い熱伝導率を有しており、従来のアルミナセラミックスをはるかに上回っています。そのため、窒化アルミニウムセラミックスは理想的な放熱材料であり、電子機器、LED照明、レーザー機器などの分野に適しており、機器の効率と寿命を効果的に向上させます。

 

2. 優れた電気絶縁性

窒化アルミニウムセラミックス基板は、優れた電気絶縁性、低い誘電率、小さな誘電損失を備え、高周波領域でも安定した特性を示します。これらの特性により、高周波回路基板、パワーモジュールパッケージなど、高周波・高出力電子機器に最適な材料となっています。

 

3. 優れた熱膨張係数の整合性

窒化アルミニウムセラミックス基板の熱膨張係数は約4.5×10^-6/Kで、シリコン(Si)やガリウムヒ素(GaAs)などの半導体材料に非常に近い値です。そのため、窒化アルミニウムセラミックスは半導体デバイスに最適な基板材料であり、熱応力の低減とデバイスの信頼性と安定性の向上に貢献します。

 

セラミック基板は、優れた熱伝導性、耐熱性、絶縁性、低熱膨張係数といった利点を活かし、バッテリーシステムに加え、パワーエレクトロニクスデバイスのパッケージングにも広く利用されています。現在、セラミック基板は主にIGBT、LDデバイスパッケージング、LEDパッケージング、チップパッケージモジュールなどに使用されています。

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