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製品情報

アルミセラミック基板_半導体セラミック部品

アルミセラミック (Al₂O₃) 基板_半導体セラミック部品とノズルは、その優れた電気的、熱的、機械的特性により、ディスペンサー装置や電子発電機部品などの半導体プロセス装置に広く使用されています。
アルミセラミック基板は、非常に優れた電気絶縁性と高い熱伝導性を有しており、半導体産業において非常に重要な役割を果たしています。

Alumina Ceramic Base

アルミセラミック構造部品の特性:

項目 試験条件 単位と記号 95% Al2O3 99% Al2O3 99.7% Al2O3
主な化学成分 Al2O3 Al2O3 Al2O3
体積密度 g/cm3 3.6 3.89 3.96
最高使用温度 1450°C 1600°C 1650°C
吸水率 % 0 0 0
ビッカーズ硬さ ≥85 ≥89 ≥89
曲げ強度 20° C MPa (psi x 103) 358 (52) 550 550
圧縮強度 20° C MPa (psi x 103) 2068 (300) 2600(377) 2600(377)
破壊靱性 K(I c) Mpa m1/2 4 – 5 5.6 6
熱膨張係数 25-1000° C 1X 10-6/°C 7.6 7.9 8.2
熱伝導率 20° C W/m °K 16 30 30.4
耐熱働撃率 Tc °C 250 200 200
絶縁破壊強度 1MHz.25°C 9 9.7 9.7
絶縁破壊強度 交流-kV/mm (交流 V/mil) 8.3 (210) 8.7 (220) 8.7 (220)
体積抵抗率 100°C Ω-cm > 10^13 > 10^14 14

アルミセラミック基板とノズルは、半導体製造やさまざまなハイテク・アプリケーションで重要な電子発生器アセンブリの重要な絶縁・遮蔽部品です。

弊社のアルミセラミック部品(アルミセラミック基板)は多くの半導体メーカーから高い評価を得ています。
ご必要な場合、sales@innovacera.com までお気軽にお問い合わせください。

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