February 24, 2023 用于等离子蚀刻设备的氮化铝 (AlN) 喷嘴 高耐性工艺级氮化铝 (AlN)是许多半导体设备和应用的理想材料。Innovacera 设计氮化铝 (AlN) 喷嘴,以实现精确的气体流速和均匀的控制,从而将气体均匀地分散到蚀刻工艺室中。这些组件需要具有高等离子体抗性、介电强度以及对工艺气体和副产品的强耐腐蚀性。氮化铝材料特性特性INC-AN180INC-AN200INC-AN220颜色灰色灰色米色主页内容96%ALN96%ALN97%ALN主要特…