等离子体应用

氮化硼陶瓷 (BN) 在等离子环境中具有独特的抗溅射性能，即使在强电磁场存在的情况下也不易产生二次离子。抗溅射性能有助于延长组件寿命，而低二次离子产生有助于保持等离子环境的完整性。 因此，氮化硼陶瓷 (BN) 被广泛用于将溅射室中的等离子电弧限制在目标材料上，并防止工艺室中整体组件的腐蚀。 氮化硼（BN）等离子应用的主要产品包括用于制造PVD等离子室的电弧屏蔽和导向器、靶框、屏蔽罩和垫片。 同时，氮化硼陶瓷（BN）还用于以等离子为推进方式的轨道卫星和深空探测器的霍尔效应…