薄膜制备工艺如PVD真空镀膜、电子束蒸发、热蒸发沉积和磁控溅射通常在高真空或惰性气氛环境中进行,涉及金属材料的高温熔化和蒸发过程。铝、金、银、铜及合金等蒸发材料对坩埚和蒸发舟的高温稳定性和化学相容性有严格要求。 然而,石墨、氧化铝和碳化硅坩埚在高温条件下易发生润湿粘附、化学反应或热应力损伤,进而影响薄膜质量和工艺稳定性。 因此,氮化硼(BN)陶瓷(h-BN和PBN)凭借其稳定的化学惰性和不粘附特性…
薄膜制备工艺如PVD真空镀膜、电子束蒸发、热蒸发沉积和磁控溅射通常在高真空或惰性气氛环境中进行,涉及金属材料的高温熔化和蒸发过程。铝、金、银、铜及合金等蒸发材料对坩埚和蒸发舟的高温稳定性和化学相容性有严格要求。 然而,石墨、氧化铝和碳化硅坩埚在高温条件下易发生润湿粘附、化学反应或热应力损伤,进而影响薄膜质量和工艺稳定性。 因此,氮化硼(BN)陶瓷(h-BN和PBN)凭借其稳定的化学惰性和不粘附特性…