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ベリリウム酸化物セラミック部品は多くの分野で使用されています

ベリリウム酸化物セラミック部品は、世界中で製品の強度、信頼性の向上、小型軽量化、そして優れた熱管理を実現します。

ベリリウム酸化物セラミックは、絶縁材料の中でダイヤモンドに次ぐ非常に高い熱伝導率を誇ります。その優れた高温性能により、ベリリウム酸化物セラミック(BeO)に対する市場の需要が高まっています。現在、今日のハイテク製品やシステムに求められる性能と信頼性を経済的に提供できる材料は他にありません。

酸化ベリリウムセラミックの特性:

  1. 低誘電率
  2. 高抵抗率
  3. 優れた熱伝導性
  4. 効率的なメタライズが容易
  5. より安定した放熱性
  6. 低熱膨張係数
  7. より均一な結晶構造
  8. 半導体キャビティのクリーン環境における耐久性が向上

酸化ベリリウムセラミックスの用途:

  • 磁気共鳴画像法
  • 高出力電子機器
  • 半導体プロセス
  • マイクロ波通信
  • RF送信機
  • 石油・ガス探査機器
  • 長距離光ファイバー伝送
  • 眼科手術用レーザーエネルギー
  • 軍用ミサイル誘導システム
  • 産業用レーザー金属切断・マーキング装置
  • 航空宇宙分野における航空機および衛星通信システム
  • 航空電子機器変換回路の支持部品およびアセンブリ 酸化ベリリウムセラミック部品の特性
    ベリリウム酸化物セラミック部品の応用

    ベリリウム酸化物セラミック部品の応用

    酸化ベリリウムセラミックの特性


アルミナセラミックレーザー反射板

セラミックレーザー反射板 技術パラメータ:
材質:Al2O3 96%
仕様:
色:白
サイズ:16(0,+0.3)×26(0,-0.3)×92(0,-0.5)mm
焼結密度:3.1 Mg/m3
気孔率:22%
波長範囲600~1000nmにおける反射効率は97%と高い
波長範囲400~1200nmにおける反射効率は95%を超える(曲線参照)

応用:
1. 強力パルス光システム
2. 固体レーザー
3. エキシマレーザーセラミックス
4. CO2レーザーセラミックス
5. イオンレーザーセラミックス

アルミナセラミックレーザー反射板


多孔質セラミック真空チャック

多孔質セラミック真空

当社は、主に半導体ウェーハの研削・切断工程における支持・保持に用いられる多孔質セラミック製吸盤テーブルを提供しています。薄化、切断、洗浄、搬送などの工程で使用されます。

用途別サクションカップワークステーション:
薄板化用サクションカップ
切断用サクションカップ
洗浄用サクションカップ
フィルム露出用サクションカップ
搬送用サクションカップ(バックライト用サクションカップ)
研削用サクションカップ
高温ウェーハ用サクションカップ
ワイヤーボンディング用サクションカップワークステーション
電磁切断用サクションカップ
凍結プレート用サクションカップ

主な用途:
–Disco、ADT、K&S、Applied Materials、TSK、OKAMOTO、Micro Automation、Load Pointなどのカッティングソーやグラインダー用の新品および再生多孔質セラミックサクションカップ。
–4インチ、5インチ、6インチ、8インチ、12インチの標準サイズに加え、丸型、四角型、楕円型、不規則な形状やサイズもオプションでご用意。
— カスタマイズ可能なサイズ

製品の特徴:
1. 高い平坦性と高い平行度
2. 緻密で均一な微細構造、高強度
3. 優れた透過性と均一な吸着性
4. 長寿命
5. ドレッシングが容易


高精度セラミックベアリング

当社は、フルセラミックベアリングとハイブリッドベアリングの両方を提供しています。

ハイブリッドベアリングは、鋼製の内輪と外輪、そしてセラミックボールで構成されています。

当社はジルコニアセラミック窒化ケイ素セラミックなど、幅広いセラミックを提供しています。

G5~G100グレードにおいて、0.5mmから90mmまでの様々なセラミックボールを製造可能です。

フルセラミックボールベアリングでは、外輪径最大200mm、内輪径最小3mmの幅広いセラミックボールを製造可能です。ケージ(保持器)は、PEEK、PFA、PTFE、ナイロン、またはグラファイト強化PTFE製です。

セラミック素材は鋼鉄ほど強度は高くありませんが、セラミックベアリングは鋼鉄よりも軽量で摩擦が少ないため、回転速度が速く、発熱が少なく、長寿命です。

ジルコニアセラミックベアリング


窒化ホウ素セラミック溶融金属ガイド

窒化ホウ素は優れた自己潤滑性セラミックであり、高温(不活性ガス下では最大2200℃)に耐え、高真空環境でも潤滑特性を維持します。窒化ホウ素ガイドベーンは金属との濡れ性が極めて低いため、グラファイトと比較して高温金属溶射に最適です。

さらに、窒化ホウ素セラミックは低膨張で高熱伝導率の耐火セラミックであるため、溶融金属に最適です。

機械加工性に優れているため、高精度かつ厳しい公差でカスタム設計に容易に加工できます。


ガスアトマイズ用窒化ホウ素ノズル

ガスアトマイズ用窒化ホウ素ノズル ガスアトマイズ用窒化ホウ素ノズル

窒化ホウ素セラミックは、低膨張性と高熱伝導率を備えた耐火セラミックで、溶融金属に最適です。窒化ホウ素は優れた自己潤滑性セラミックで、高温に耐え、高真空環境でも潤滑機能を維持できます。窒化ホウ素ノズルは金属との濡れ性が非常に低いです。そのため、窒化ホウ素ノズルは、溶融金属粉末冶金のガスアトマイズによく使用されます。当社では、様々なサイズとカスタム設計をご用意しております。


PBN熱分解窒化ホウ素

PBN熱分解窒化ホウ素

PBNは、高温で高純度が求められる用途に最適です。CVDプロセスを用いて成長した超高純度固体窒化ホウ素です。無毒性、非多孔性で、優れた耐熱衝撃性と良好な熱伝導性を備えています。

応用分野

  1. MBE るつぼ
  2. MBE 家具
  3. 真空炉の断熱
  4. 電気絶縁体
  5. LEC、VGF るつぼ
  6. 相撲るつぼ
  7. 発熱体

窒化アルミニウムセラミックス

窒化アルミニウムセラミックス

窒化アルミニウム(AlN)は、非常に高い熱伝導性と優れた電気絶縁性を備えた工業用セラミック材料です。六方晶系の結晶構造を持ち、共有結合した材料です。
高密度の工業用グレードの材料を製造するには、焼結助剤とホットプレスプロセスが必要です。
不活性ガス環境で非常に安定しています。空気中では、700℃を超えると表面酸化が始まります。酸化アルミニウム層が形成され、1370℃まで材料を保護します。この温度を超えると、バルク酸化が起こります。
窒化アルミニウムは、水素および二酸化炭素雰囲気中では980℃にも達することがあります。鉱酸中では粒界を攻撃してゆっくりと溶解し、強塩基中では窒化アルミニウムの粒を攻撃してゆっくりと溶解します。この材料は水中でゆっくりと加水分解します。放熱が重要となるエレクトロニクス分野によく使われています。
窒化アルミニウムは、酸化ベリリウムの無毒な代替品として大きな注目を集めています。多くの電子機器アプリケーションでは、金属化法を使用して、酸化アルミニウムや酸化ベリリウム (BeO) を窒化アルミニウム (AlN) に置き換えることができます。

特性
優れた誘電特性
高い熱伝導率
シリコンに近い低い熱膨張係数
従来の半導体プロセス用化学薬品やガスと反応しない

応用分野
電子パッケージ基板
ヒートシンク
ICパッケージ
パワートランジスタベース
マイクロ波デバイスパッケージ
材料処理窯設備
半導体処理チャンバー用固定具および絶縁体
溶融金属ハンドリング部品


窒化ホウ素部品

窒化ホウ素部品

窒化ホウ素(BN)は、複雑な部品に加工できる機械加工可能なセラミックです。加工後、部品は追加の熱処理や焼成工程なしですぐに使用できます。BN部品は、主に様々な超高温真空炉、金属またはガラス溶解るつぼ、ノズルなどに使用されます。窒化ホウ素は通常、ホットプレスされた固体の形で製造され、プレス工程中に配向されて六方晶系および層状の結晶構造を形成します。その結果、材料特性はプレス方向に対して異方性を持ちます。実際、材料特性はプレス方向と材料グレードによって大きく異なります。


メタライズドセラミックス

メタライズドセラミックス

当社は、極めて高い結合強度を有する高信頼性真空シール継手ソリューションを提供します。メタライズドセラミックスは多くの分野で広く使用されています。

適用分野:
貫通型絶縁体/真空遮断器
高出力ソケット
絶縁リングおよび絶縁シリンダ
集塵機製品
電源スイッチ
進行波管
X線管


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