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窒化アルミナセラミック基板 Company
窒化アルミナ (ALN) は、非常に高い熱伝導率(最大230W/m.K)と優れた電気絶縁特性を併せ持つ、非常に興味深い先進的な技術セラミック材料です。 このため、窒化アルミニウム(AlN)セラミック基板は、パワーエレクトロニクスやマイクロエレクトロニクスで広く使用されています。 例えば、半導体の回路キャリア(基板)として、あるいはLED照明技術やハイパワー電子機器のヒートシンクとして使用されています。 &nb…
窒化アルミナ (ALN) は、非常に高い熱伝導率(最大230W/m.K)と優れた電気絶縁特性を併せ持つ、非常に興味深い先進的な技術セラミック材料です。 このため、窒化アルミニウム(AlN)セラミック基板は、パワーエレクトロニクスやマイクロエレクトロニクスで広く使用されています。 例えば、半導体の回路キャリア(基板)として、あるいはLED照明技術やハイパワー電子機器のヒートシンクとして使用されています。 &nb…