窒化ホウ素はイオン源で一般的に使用される材料です。絶縁体、ブッシング、内部支持構造などに用いられますが、その理由は単純明快です。優れた絶縁性、良好な耐熱性、そして真空およびプラズマ環境下での安定性を備えているからです。