検索センター

製品
Loading...
230 Wm·K AlN基板 レーザーダイオード用  INNOVACERA
レーザーダイオード基板
研磨AlN基板
230 Wm·K AlN基板
AlNサブマウント
IMG_4439

230 W/m·K 窒化アルミニウム(AlN)基板

230 W/m·Kクラスの高熱伝導AlN基板です。レーザーダイオード、高出力レーザーモジュール、フォトニクス関連部品など、熱対策が重要となる用途を想定しています。

代表的なサイズは100 × 100 mm、114.3 × 114.3 mm、120 × 120 mm。厚さは0.38 / 0.55 / 0.635 mmです。必要に応じて表面研磨を行い、Ra 0.05 μm以下の仕上げも可能です。

お問い合わせ

230 W/m·K 高熱伝導AlN基板

レーザーダイオードやフォトニクス部品では、素子周辺に発生する熱をパッケージやヒートシンク側へ逃がす必要があります。AlNは熱を伝えやすく、同時に電気絶縁性を持つ材料です。そのため、レーザーダイオードのサブマウントや、パッケージとヒートシンクの間に入れる基板として使用されています。

サイズや厚さは図面に合わせて調整できます。研削、研磨、精密切断、レーザー加工についてもご相談ください。

230 W/m·Kグレードの測定例

100 × 100 × 0.55 mmのサンプルでは、熱伝導率の平均値は231 W/(m·K)でした。

項目 測定値・仕様
熱伝導率 ≥230 W/(m·K)
平均測定値 231 W/(m·K)
曲げ強度 392 MPa
密度 3.28 g/cm³
試験サンプルサイズ 100 × 100 × 0.55 mm

※数値は上記サンプルの測定結果です。

表面仕上げを重視する場合は、Ra 0.05 μm以下まで研磨できます。

標準対応サイズ

サイズ 厚さ
100 × 100 mm 0.38 / 0.55 / 0.635 mm
114.3 × 114.3 mm 0.38 / 0.55 / 0.635 mm
120 × 120 mm 0.38 / 0.55 / 0.635 mm

このほかの寸法については、図面を確認して製作可否を判断します。

主な用途

230 W/m·Kグレードは、放熱性を特に重視するレーザー、フォトニクス、高出力半導体分野で使用されています。

  • レーザーダイオード用AlNサブマウント
  • 高出力レーザーモジュール
  • レーザーダイオードアレイ
  • フォトニクス・オプトエレクトロニクス部品
  • 光通信モジュール
  • 高出力半導体デバイス
  • 小型・高放熱電子モジュール

レーザーダイオード実装用では、実装構造に合わせてサイズ、厚さ、表面粗さ、寸法公差を指定できます。

精密加工

基板形状や実装条件に合わせて、各種加工を行っています。

  • 精密研磨:Ra ≤0.05 μm
  • 平面研削
  • 精密切断
  • レーザー加工
  • 穴・スロット加工
  • 異形加工

加工内容や公差については、図面をご提示いただければ確認できます。

レーザーダイオード用基板としてのAlN

レーザーダイオードでは、発光部付近に熱が集中します。サブマウントには、この熱をパッケージやヒートシンク側へ効率よく伝える役割があります。

230 W/m·KグレードのAlNは、高い熱伝導性を持ちながら電気絶縁性も確保できるため、このような実装構造に使いやすい材料です。

表面研磨や精密寸法加工も可能で、レーザーサブマウントや光通信モジュールなど、表面状態や組立精度を重視する用途にも使用できます。

カスタムAlN基板

標準サイズ以外のAlN基板も製作できます。お問い合わせの際は、図面とあわせて以下の仕様をお知らせください。

  • 外形寸法
  • 厚さ
  • 表面粗さ
  • 寸法公差
  • 穴・スロットなどの加工内容

仕様を確認し、製作可否や加工方法をご案内します。

230 W/m·K AlN基板について

レーザーダイオード、レーザーサブマウント、フォトニクス、光通信モジュール向けのAlN基板をご検討の場合は、図面または必要な仕様をお送りください。

サイズ、厚さ、表面仕上げ、加工内容を確認したうえで対応いたします。

声明:これはINNOVACERA®のオリジナル記事です。転載する際は、出典リンクを明記してください:https://www.innovacera.com/ja/product/230-w-mk-aln-substrates-for-laser-diodes

よくある質問

230 W/m·K AlN基板はどのような用途に使用できますか?

レーザーダイオード用サブマウント、高出力レーザーモジュール、レーザーダイオードアレイ、フォトニクス部品、光通信モジュール、高出力半導体デバイスなど、放熱性が重要な用途に使用できます。

 

表面研磨はどの程度まで対応できますか?

用途に応じて精密研磨が可能で、表面粗さはRa 0.05 μm以下まで対応できます。レーザーサブマウントなど、表面状態を重視する用途にも適しています。

標準サイズ以外のAlN基板も製作できますか?

はい。標準サイズ以外についても、図面に基づいてサイズ、厚さ、表面粗さ、寸法公差、穴やスロットなどの加工内容を確認し、製作可否を検討します。

お見積もりを取得するには?

必要な技術的および開発的サポートであなたのプロジェクトをサポートします

Inquiry

お問い合わせ

Proposal

提案

Order

注文

Production

製造

Delivery

配達

プロジェクトのサンプルをリクエスト

当社のエンジニアは1-3営業日以内に対応します。

お問い合わせ

Top