窒化ホウ素セラミックス

半導体チップから新エネルギー車、鉄鋼冶金から環境保護まで、高温セラミック部品は、その独自の性能上の利点により、ハイエンド製造業の発展を支えています。 現代の産業システムにおいて、炉システムは材料合成、熱処理、エネルギー変換、環境保護の中核となる設備です。半導体ウェーハの拡散プロセス、リチウム電池正極材料の焼結、鋼の連続鋳造、産業廃ガスの再生燃焼など、これらのプロセスは高温、腐食、摩耗、熱衝撃といっ…

窒化ホウ素（BN）は、複雑な部品に加工できる機械加工可能なセラミックです。加工後、部品は追加の熱処理や焼成工程なしですぐに使用できます。BN部品は、主に様々な超高温真空炉、金属またはガラス溶解るつぼ、ノズルなどに使用されます。窒化ホウ素は通常、ホットプレスされた固体の形で製造され、プレス工程中に配向されて六方晶系および層状の結晶構造を形成します。その結果、材料特性はプレス方向に対して異方性を持ちま…

窒化ホウ素セラミックスは低膨張、高熱伝導性の耐火セラミックスであり、溶融金属の理想的な選択です。その良好な加工性のため、簡単にカスタム設計に加工することができ、精度が高く、公差が小さいです。窒化ホウ素は真空環境下で長期使用することができ、温度は1800°Cに達します。ガス保護下で、窒化ホウ素は2100°Cで使用することができます。窒化ホウ素は非常に高い耐熱振動性を持ち、極冷と高温では割れないです。…

窒化ホウ素は六方構造を呈し、その潤滑性、異方性、耐熱性と高熱伝導性から、白石インクとも呼ばれます。高熱伝導性と低熱膨張性を結合し、優れた耐熱振動性を持たせます。熱圧、熱分解、熱などの静圧の3つのプロセスはいずれも極めて高い温度で使用することができます。しかし、酸化性雰囲気中では、最高使用温度は850〜900°Cでもあります。熱圧及び熱等の静圧窒化ホウ素は粉末緻密化により製造され、熱分解窒化ホウ素は…

窒化ホウ素支持焼板は高純度99.7%窒化ホウ素セラミックスを用いて製造され、不活性ガス（2100°C）と真空（1900°C）環境中で高い動作温度を有します。それは優れた耐熱衝撃性を持ち、温度の突然の変化への応用に用いることができます。様々な溶融金属やガラスと反応したり濡れたりすることはありません。それは良好な電気絶縁体です。窒化ホウ素高温焼結炉用セッター生産可能な最大寸法は500 mmx 500 …

高温炉はカーボン、タングステンまたはモリブデン製の発熱体を内蔵するよう設計されています。 炉の運転温度が 1500 ℃を大幅に超える場合、エレメントは酸化アルミセラミックによって炉側から電気的に絶縁されます。 技術の進化に伴い、生産サイクルが短く、加熱・冷却速度が速い高温電気炉を必要とする企業が増えています。 このような酸化セラミック絶縁部品は、高電圧により部品が故障しやすく、炉のダウンタイムが長…

蒸着技術といえば、物理蒸着（PVD）、原子層蒸着（ALD）、化学蒸着（CVD）を挙げることができます。窒化ホウ素 (BN) セラミックスはその汎用性と特性から、PVD、ALD、CVDシステムにおける重要な構成要素となっています。 ここでは、これらのシステムにおけるBNセラミックスの役割について述べたいと思います。 窒化ホウ素セラミックス格子状に配列したホウ素原子と窒素原子からなります。 六方格子…