イオン源用窒化アルミニウム/窒化ホウ素複合BN-AlNセラミック部品

BN-AlNセラミックは、 窒化ホウ素（BN） と窒化アルミニウム（AlN） の粉末を焼結して作られます。優れた電気絶縁性、熱伝導性、高強度、耐熱衝撃性、ハロゲンガスプラズマに対する強い耐性を備えており、半導体製造装置部品や効果的な放熱が求められる部品など、幅広い用途に使用されています。

イオン源は、真空チャンバー内で原子イオンと分子イオンを生成する装置です。窒化アルミニウム/窒化ホウ素複合材料は、優れた電気絶縁性、熱伝導性、真空密閉性を備え、ガス放出も少ないため、イオン源においてヒートシンクや熱伝達プレートとして機能します。

素材のメリット:

• 高い機械的強度。
• 高い熱伝導率。
• 低い熱膨張率。
• 低い誘電損失。
• 優れた電気絶縁性。
• 高い耐食性 – 溶融金属に濡れません。
• 優れた加工性 – BN-AlNは高精度で複雑な形状に加工できます。
• 優れた真空密閉性を備え、ガス放出もほとんどありません。
• 高周波特性により、可視赤外線を容易に透過します。

材料特性:

応用分野

• ヒートシンク
• 真空部品
• 低誘電率および低誘電正接が求められる部品
• 低熱膨張係数が求められる部品
• 電気絶縁および放熱が求められる電子部品
• ホール効果スラスタ用電気推進放電チャネル

当社は、窒化ホウ素複合材料シリーズを取り揃えており、お客様に幅広いソリューションをご提供しています。お客様の用途に適した高放熱ソリューションをお探しでしたら、ぜひお問い合わせください。当社の製品ラインナップと、お客様の熱管理ニーズへの対応方法についてご説明いたします。