当社の窒化ケイ素（Si₃N₄）基板は、優れた熱伝導性、高い機械的強度、そして優れた破壊靭性を兼ね備え、高出力電子機器や熱管理アプリケーションにおいて卓越した信頼性を提供します。シリコンに近い熱膨張係数と優れた耐熱衝撃性を備えたこれらの基板は、過酷な条件下でも安定した性能を維持します。精密に加工された表面とカスタマイズ可能な仕様により、IGBTパワーモジュール、高出力ヒートシンク、そして高度なワイヤ...