半導体デバイス

エレクトロニクスや新エネルギーなどのハイテク分野では、セラミック基板は重要な支持材および放熱材として用いられ、その加工精度が最終製品の性能と信頼性を直接左右します。レーザー加工技術は、非接触、高精度、熱影響部が小さいといった利点から、セラミック基板の精密加工において好ましいプロセスとなっています。本稿では、実際の加工公差データに基づき、セラミック基板に対するレーザー加工の技術的能力と応用価値を包括…