AlN　Si 3 N 4基板を焼結するための窒化ホウ素セラミックス焼結支持板

窒化ホウ素支持焼板は高純度99.7%窒化ホウ素セラミックスを用いて製造され、不活性ガス（2100°C）と真空（1900°C）環境中で高い動作温度を有します。それは優れた耐熱衝撃性を持ち、温度の突然の変化への応用に用いることができます。様々な溶融金属やガラスと反応したり濡れたりすることはありません。それは良好な電気絶縁体です。
窒化ホウ素高温焼結炉用セッター生産可能な最大寸法は500 mmx 500 mmであり、プレートに光孔、ねじ孔、溝または肩部を加工することができます。この分野では、精密加工された部品を提供することができます。