アルミナセラミックフォーカスリングは、ウェーハエッジまたは外周部のエッチング均一性を向上させるように設計されています。静電チャック（Eチャック）と併用すると、ウェーハはエッジフォーカスリング上に静電気によって保持されます。
アルミナセラミックフォーカスリングは、プラズマエッチング装置、特にエッチングチャンバー内の重要な部品として機能します。これらのリングは、プラズマ分布を最適化し、エッチングプロセス中の均一性を維持するために戦略的に配置されています。
半導体製造プロセスでは、特に高温、真空、腐食性ガス環境下で使用される部品は、クリーンルーム環境での動作が求められます。セラミック材料は、こうした複雑な物理的・化学的環境下においても高い安定性を維持します。
セラミックフォーカスリングは、半導体エッチングプロセスにおいて重要な部品です。エッチングチャンバーの材質としてアルミニウム合金を選択すると、金属粒子による汚染が発生しやすくなります。そのため、プラズマエッチング装置のチャンバー材質として、セラミックフォーカスリングの製造には高純度（99.5%以上）のアルミナセラミックが使用されています。
セラミックフォーカスリングの特徴：
-耐摩耗性、
-耐食性、
-優れた機械的特性、
-電気絶縁、
・半導体製品の品質基準を満たしています。
当社は、テクニカルセラミックソリューション、先進セラミック部品、半導体業界において10年以上の豊富な経験を有しています。高水準の品質システムと厳格な品質管理プロセスを確立し、各バッチの製品に厳格な品質検査を実施しています。サービス理念は、品質要件を満たし、お客様にご満足いただくことです。
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