氧化铝陶瓷聚焦环

氧化铝陶瓷聚焦环是等离子刻蚀设备的关键部件，主要用于刻蚀腔体。聚焦环的巧妙定位旨在优化等离子体分布，并在刻蚀过程中保持均匀性。

半导体制造工艺需要在洁净室环境中运行，尤其是在高温、真空和腐蚀性气体条件下使用的组件。陶瓷材料在这些复杂的物理和化学环境中保持高度稳定性。

陶瓷聚焦环是半导体刻蚀工艺的关键部件。当选择铝合金作为刻蚀腔体材料时，很容易造成金属颗粒污染。因此，高纯度（99.5% 以上）氧化铝陶瓷被用于制造陶瓷聚焦环，作为等离子刻蚀设备的腔体材料。

陶瓷聚焦环的特点：

-耐磨，
-耐腐蚀，
-优异的机械性能，
-电气绝缘，
-符合半导体产品质量标准。

Innovacera 在技术陶瓷解决方案、先进陶瓷元件和半导体行业拥有超过 10 年的丰富经验。我们建立了高标准的质量体系和严格的质量控制流程，每批产品都经过严格的质量检验。Innovacera 的服务理念是满足质量要求和客户满意度。
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