technical ceramic solutions

用于等离子蚀刻设备的氮化铝 (AlN) 喷嘴

高耐性工艺级氮化铝 (AlN)是许多半导体设备和应用的理想材料。

Innovacera 设计氮化铝 (AlN) 喷嘴,以实现精确的气体流速和均匀的控制,从而将气体均匀地分散到蚀刻工艺室中。这些组件需要具有高等离子体抗性、介电强度以及对工艺气体和副产品的强耐腐蚀性。

氮化铝材料特性
特性 INC-AN180 INC-AN200 INC-AN220
颜色 灰色 灰色 米色
主页内容 96%ALN 96%ALN 97%ALN
主要特性 高导热性、优异的耐等离子性
主要用途 散热零件、耐等离子性零件
散装密度 3.30 3.30 3.28
吸水率 0.00 0.00
维氏硬度(负载 500g) 10.00 9.50 9.00
抗弯强度 >=350 >=325 >=280
抗压强度 2,500.00 2,500.00
杨氏弹性模量 320.00 320.00 320.00
泊松比 0.24 0.24
断裂韧性
线性热膨胀系数 40-400 摄氏度 4.80 4.60 4.50
热导率 20 摄氏度 180.00 200.00 220.00
比热 0.74 0.74 0.76
抗热震性
体积电阻率 20 度摄氏度 =10-14 =10-14 =10-13
介电强度 =15 =15 =15
介电常数 1MHz 9.00 8.80 8.60
损耗角正切 *10-4 5.00 5.00 6.00
备注:该值仅供参考,不同的使用条件会略有不同。

如果您从事该领域,请联系我们了解更多详情

我们很乐意讨论我们的材料如何为您提供解决方案。

等离子蚀刻设备的氮化铝 (AlN) 喷嘴

等离子蚀刻设备的氮化铝 (AlN) 喷嘴


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