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用于 PVD ​​CVD 磁控溅射系统的氮化硼隔离组件

用于PVD CVD磁控溅射系统的氮化硼隔离组件

氮化硼是一种耐高温、润滑的陶瓷材料。它具有优异的电阻率、化学稳定性和润湿性。

氮化硼形状和陶瓷组件是要求优异的抗热震性、高电阻率以及耐化学性和腐蚀性的应用中的关键部件。

物理气相沉积 (PVD) 是指基于真空的薄膜镀膜方法,广泛应用于各种材料的表面工程。PVD 镀膜方法采用多种方法生成靶材并将其沉积到基材表面,包括溅射沉积,常用于光电器件、汽车和航空航天精密部件等的制造。

溅射是一种独特的工艺,通过持续的等离子轰击将粒子从靶材中强力喷射出来。氮化硼陶瓷广泛用于将溅射室内的等离子弧约束在靶材上,并防止工艺室内的整体部件受到腐蚀。

氮化硼陶瓷部件,例如绝缘罩和导轨、靶材框架、保护管、屏蔽罩、衬套以及绝缘体,可确保 PVD ​​电弧始终约束在靶材上,从而防止设备损坏。

在这些应用中,Innovacera 99% BN 通常用作热解氮化硼的替代品。

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