PVD

氮化硼是一种耐高温、润滑的陶瓷材料。它具有优异的电阻率、化学稳定性和润湿性。氮化硼形状和陶瓷组件是要求优异的抗热震性、高电阻率以及耐化学性和腐蚀性的应用中的关键部件。物理气相沉积 (PVD) 是指基于真空的薄膜镀膜方法，广泛应用于各种材料的表面工程。PVD 镀膜方法采用多种方法生成靶材并将其沉积到基材表面，包括溅射沉积，常用于光电器件、汽车和航空航天精密部件等的制造。溅射是一种独特的工艺，通过持续…

氮化硼具有高介电强度和高化学惰性，非常适合用于在严苛高温环境下（例如 PVD、CVD 和等离子工艺）的各种屏蔽和绝缘部件。氮化硼部件，例如绝缘导轨、保护管、靶框、屏蔽罩和衬垫，可确保 PVD ​​电弧始终朝向靶材，从而防止设备损坏。在这些应用中，氮化硼通常用作热解氮化硼的替代品。

六方氮化硼具有与石墨相似的微观结构。在这两种材料中，这种由微小薄片层组成的结构具有出色的可加工性和低摩擦性能。我们称之为六方氮化硼 (HBN) 或白色石墨。氮化硼通常被加工以隔离在 PVD ​​设备中工作的组件。它们被安装为 PVD ​​磁控溅射系统中的替换部件。