氮化硼是一种耐高温、润滑的陶瓷材料。它具有优异的电阻率、化学稳定性和润湿性。 氮化硼形状和陶瓷组件是要求优异的抗热震性、高电阻率以及耐化学性和腐蚀性的应用中的关键部件。 物理气相沉积 (PVD) 是指基于真空的薄膜镀膜方法，广泛应用于各种材料的表面工程。PVD 镀膜方法采用多种方法生成靶材并将其沉积到基材表面，包括溅射沉积，常用于光电器件、汽车和航空航天精密部件等的制造。 溅射是一种独特的工艺，通过持续的等离子轰击将粒子从靶材中强力喷射出来。氮化硼陶瓷广泛用于将溅射室内…

氮化硼具有高介电强度和高化学惰性，非常适合用于在严苛高温环境下（例如 PVD、CVD 和等离子工艺）的各种屏蔽和绝缘部件。 氮化硼部件，例如绝缘导轨、保护管、靶框、屏蔽罩和衬垫，可确保 PVD ​​电弧始终朝向靶材，从而防止设备损坏。在这些应用中，氮化硼通常用作热解氮化硼的替代品。

PBN-PG 陶瓷加热器结合了三层超高纯度陶瓷，PBN-PG-PBN，以产生先进的微陶瓷加热元件系统。PBN 作为绝缘基板，PG 作为电阻元件。我们的 PBN 加热器（热解氮化硼）和 PG 加热器（热解石墨）均采用高温 CVD 制造。这些高性能元件在陶瓷加热器中表现出出色的热性能，包括高导热性和各向异性。 PBN-PG 加热器具有机械耐用性和抗热冲击性，在大多数情况下不受振动影响，并且可以根据特定要求定制热梯度。PBN-PG 加热器具有超快响应和低热质量，功率输出为 35 瓦/厘米…

我们的热解氮化硼 (PBN) 采用化学气相沉积 (CVD) 工艺处理。性能卓越的 PBN 是炉、电气、微波和半导体元件的理想选择。 分子束外延 (MBE) 是当今世界上最重要的 III-V 族和 II-VI 族半导体晶体外延生长工艺之一。 MBE 中使用的束源坩埚需要具有耐高温、高纯度、使用寿命长等特点。 PBN 坩埚完全可以满足上述要求。它是 MBE 工艺中蒸发元素和化合物的理想容器。 如需了解有关我们的热解氮化硼材料的更多信息，请立即联系我们。