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用于等离子蚀刻设备的氮化铝 (AlN) 喷嘴 Company
高耐性工艺级氮化铝 (AlN)是许多半导体设备和应用的理想材料。 Innovacera 设计氮化铝 (AlN) 喷嘴,以实现精确的气体流速和均匀的控制,从而将气体均匀地分散到蚀刻工艺室中。这些组件需要具有高等离子体抗性、介电强度以及对工艺气体和副产品的强耐腐蚀性。 氮化铝材料特性 特性 INC-AN180 INC-AN200 INC-AN220 颜色 灰色 灰色 米色 主页内容 96%ALN 96%ALN 97%ALN …
高耐性工艺级氮化铝 (AlN)是许多半导体设备和应用的理想材料。 Innovacera 设计氮化铝 (AlN) 喷嘴,以实现精确的气体流速和均匀的控制,从而将气体均匀地分散到蚀刻工艺室中。这些组件需要具有高等离子体抗性、介电强度以及对工艺气体和副产品的强耐腐蚀性。 氮化铝材料特性 特性 INC-AN180 INC-AN200 INC-AN220 颜色 灰色 灰色 米色 主页内容 96%ALN 96%ALN 97%ALN …