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产品系列

氮化硅研磨介质球

Innovacera氮化硅研磨介质球采用滴定、滚压和CIP(冷等静压)成型3种方式制成,并在1800~2100℃下进行气压烧结。氮化硅的纯度为99%,一般如果直径尺寸大于3mm,我们会选择CIP成型方式。

Silicon nitride grinding ball

氮化硅研磨球具有化学惰性、低摩擦、低发热、电绝缘、无磁性、高强度和耐腐蚀等优异特性。

与其他研磨介质相比,氮化硅 (Si₃N₄) 研磨球可提高能源效率、减少机械磨损,并实现超细研磨和分散。对于需要高耐磨性、低污染和低磨损的研磨介质,例如半导体浆料、药物分散体、电池材料研磨,它是理想的选择。我们的氮化硅研磨球主要尺寸为 0.2 毫米 – 20 毫米。

氮化硅研磨球通用尺寸:

型号 尺寸(毫米)
INSNGM0204 0.2-0.4
INSNGM0406 0.4-0.6
INSNGM0608 0.6-0.8
INSNGM0810 0.8-1.0
INSNGM1012 1.0-1.2
INSNGM1220 1.2-2.0
INSNGM2030 2.0-3.0
INSNGM3050 3.0-5.0
INSNGM50100 5.0-10
INSNGM100150 10.0-15.0
INSNGM150200 15.0-20.0

氮化硅研磨球材质属性:

项目 单位
氮化硅 % 90±0.5%
氧化钇 % 4±1%
氧化铝 % 4±1%
三氧化二铁 % <0.03%
二氧化硅 % <0.02%
氧化钙 % <0.01%
硬度(HV10) GPa >1300
密度 g/cm3 GPa >3.2
抗压强度 MPA >500

应用:
陶瓷制造
新能源
电子材料研磨
研磨油墨、稀土和先进聚合物
高纯度化学系统研磨

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