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氮化硅研磨球具有化学惰性、低摩擦、低发热、电绝缘、无磁性、高强度和耐腐蚀等优异特性。
与其他研磨介质相比,氮化硅 (Si₃N₄) 研磨球可提高能源效率、减少机械磨损,并实现超细研磨和分散。对于需要高耐磨性、低污染和低磨损的研磨介质,例如半导体浆料、药物分散体、电池材料研磨,它是理想的选择。我们的氮化硅研磨球主要尺寸为 0.2 毫米 – 20 毫米。
氮化硅磨介球尺寸:
| 规格(mm) | ||||
| 0.2-0.4 | 0.4-0.6 | 0.6-0.8 | 0.8-1.0 | 1.0-1.2 |
| 1.4-1.6 | 1.6-1.8 | 1.8-2.0 | 2.0-2.2 | 2.2-2.4 |
| 2.4-2.6 | 2.6-2.8 | 2.8-3.0 | 3.0-3.5 | 3.5-4.0 |
| 4.0-4.5 | 4.5-5.0 | 5.0-5.5 | 5.5-6.0 | 6.0-6.5 |
| 6.5-7.0 | 7.0-7.5 | 7.5-8.0 | 8.0-8.5 | 8.5-9.0 |
| 9.0-9.5 | 9.5-10 | 10.0-10.5 | 10.5-11.0 | 11.0-11.5 |
| 11.5-12.0 | 12.0-12.5 | 12.5-13.0 | 13.0-13.5 | 13.5-14.0 |
| 14.0-14.5 | 14.5-15.0 | 15.0-15.5 | 15.5-16.0 | 16.0-16.5 |
| 16.5-17.0 | 17.0-17.5 | 17.5-18.0 | 18.0-18.5 | 18.5-19.0 |
| 19.0-19.5 | 19.5-20.0 | |||
氮化硅研磨球材质属性:
| 项目 | 单位 | 值 |
| 氮化硅 | % | 90±0.5% |
| 氧化钇 | % | 4±1% |
| 氧化铝 | % | 4±1% |
| 三氧化二铁 | % | <0.03% |
| 二氧化硅 | % | <0.02% |
| 氧化钙 | % | <0.01% |
| 硬度(HV10) | GPa | >1300 |
| 密度 g/cm3 | GPa | >3.2 |
| 抗压强度 | MPA | >500 |
应用:
陶瓷制造
新能源
电子材料研磨
研磨油墨、稀土和先进聚合物
高纯度化学系统研磨

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