technical ceramic solutions

产品系列

氮化铝晶片基板

Innovacera 标准氮化铝晶片直径从 50.8 毫米(2 英寸)到 200 毫米(8 英寸);最常用的是 6 英寸氮化铝晶片和 8 英寸 AlN 晶片基板。AlN 晶片可生产出厚度从 0.125 毫米到 1 毫米的各种厚度,侧面可抛光或研磨,也可提供定制尺寸或要求。

Aluminum Nitride Wafer Substrates

氮化铝 (AIN) 材料在半导体行业中发挥着重要作用,其热特性与硅的相似性使其成为晶圆相关半导体应用的理想选择。Innovacera 的氮化铝晶圆具有 Si 芯片和热循环的高可靠性。
根据直接晶圆键合技术,抛光的半导体晶圆可以在不使用粘合剂的情况下键合在一起。直接晶圆键合需要非常平坦和高光滑度的表面(Ra≤0.05um),Innovacera AlN 晶圆基板可以满足这一要求。

特点

  • 熔点高
  • 电绝缘性好
  • 介电常数低
  • 机械强度高
  • 耐熔融金属腐蚀性强
  • 热稳定性和化学稳定性
  • 导热系数高 (170-220w/mk)
  • 热膨胀系数与硅 (si) 相似

特性

特性 单位 AN170 AN230 AN99 AN999
颜色 灰色 米色 灰色 米色
ALN含量 ≥95% ≥96% ≥99% ≥99.9%
体积密度 g/cm3 ≥3.30  ≥3.28 ≥3.26 ≥3.25
弯曲强度 MPa ≥400 ≥300 ≥300 ≥300
抗压强度 MPa 2500 2000 2000 2000
Hv 500g Gpa 10.5 9.0 9.0 9.0
杨氏模量 Gpa 300 300 280 280
热导率(@20°C) W/m·K ≥170 ≥220 ~100 ~90
比​​热 KJ/(Kg·K) 0.74 0.73 0.73 0.73
C.T.E (r.t.-400°C) 10-6/K 4.6 4.6 4.6
体积电阻率 Ω·cm 20°C ≥1014 ≥1013 ≥1010 ≥1010
介电强度 KV/mm ≥16 ≥15 ≥15 ≥15
介电常数 (@1MHz) 8.6 8.6 8.6 8.6
损耗角正切 (@1MHz) ×10-4 5 5 5 5

AlN 晶圆规格

特性 单位 6英寸晶圆 8英寸晶圆
材料 AlN 陶瓷 AlN 陶瓷
热导率 W/m·K >170 >170
热膨胀系数 ppm/K(300~1200K) 4-6 4-6
烧结助剂 Y2O3 Y2O3
直径 mm 150+/-0.25 200+/-0.25
凹槽深度 mm 1.0+0.25/-0/定位边缘 1.0+0.25/-0
凹槽角度 90°+5/-2° 90°+5/-2°
厚度 μm 400±15 400±15
TTV μm <10 <10
弓形 μm <±30 <±30
扭曲 μm <50 <50
Ra nm <50 <50

应用

  • 半导体制造
  • 微波功率放大器
  • 射频功率和开关
  • 高温电力电子
  • 激光二极管色散光电器件
  • 大功率高频电子设备
  • MOSFET、IGBT功率模块
  • 用于冷却和保护电路的LED封装
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