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120V 230V 氧化铝球点火器 Company
氧化铝颗粒点火器 是一种使用氧化铝颗粒作为主要点火材料的点火装置。氧化铝,也称为氧化铝 (Al2O3),是一种具有出色热和电绝缘性能的陶瓷材料,非常适合点火器应用。它们被设计为在施加电流时产生热量,从而允许它们在各种系统中点燃或启动燃烧过程。 当谈到 颗粒炉点火器 的电压要求时,它们可能因具体型号和制造商而异。通常,您可以找到专为 120V 或 230V 电源系统设计的颗粒炉点火器。制造商应为特定点火器型号指定电压要求。 氧化铝点火器 具有耐高温、电绝缘和可靠性等优点。它们可以承受…
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新一代半导体AMB Company
在 H2 环境中进行钎焊(例如银)时,需要极高的耐热性和耐能量循环性,具有独特的耐高低温冲击性,AMB 基板 成为新一代半导体 (SIC) 和新型大功率电子设备的理想封装材料,即使超过 1000 次循环,它仍保持良好的热稳定性。 铜厚度为 0.1-0.5mm,提供非常高的载流量和非常好的散热性。这使得它成为以下应用的首选材料: -IGBT -电源模块 -汽车电力电子 -可再生能源 -空间和工业 -其他 [caption id="attachment_26245" alig…
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氮化铝(AlN)陶瓷坩埚 Company
氮化铝陶瓷坩埚由于其导热系数高(≥170W/m.k),可用于导热达到加热效果,广泛应用于电子设备中,如电子设备的气体雾化。 [caption id="attachment_26216" align="alignleft" width="300"] 氮化铝坩埚[/caption] 氮化铝坩埚 还可用作真空蒸发和金属冶炼的容器,特别适用于铝的真空蒸发坩埚。 因为氮化铝陶瓷是在真空中加热,蒸气压低,即使分解也不会污染铝。 在半导体工业中,用氮化铝坩埚代替石英坩埚合成砷化物,可以彻底消除…
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半导体行业光刻机用氧化铝陶瓷零件 Company
氧化铝陶瓷零件用于光刻机的旋转部件,处于真空状态,对加工精度要求极高,要求内圆跳动在2微米以内。 精细陶瓷已成为半导体设备的关键零部件。特别是在高端光刻机上,为了达到较高的工艺精度,需要广泛使用功能复合性好、结构稳定性、热稳定性好、尺寸精度高的陶瓷部件。如E-chuck、Vacumm-chuck、Block、磁钢骨架水冷板、反射器、导轨等。 [caption id="attachment_26088" align="alignnone" width="381"] 光刻机用氧化铝陶瓷零…
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用于半导体制造的AlN加热器基板 Company
高导热性使氮化铝成为需要快速响应或高水平均匀温度的绝佳选择。AlN 是一种清洁、无污染的热源,其高导热性可防止开裂。 氮化铝陶瓷加热板 优点: 高温加热器,最高温度可达 1000°C 导热性和均匀性极佳。 坚硬、致密、无孔、高纯度基材。 卓越的防潮和耐化学性。 出色的尺寸和形状能力。 精确、可重复的图案和分布的瓦数。 产品 ALN 加热器基材 材料 铝氮化铝 尺寸 D120*8mm 用途 半导体…