用于等离子应用的氮化硼陶瓷

氮化硼陶瓷 (BN) 在等离子环境中具有独特的抗溅射性能，即使在强电磁场存在的情况下也不易产生二次离子。抗溅射性能有助于延长组件寿命，而低二次离子产生有助于保持等离子环境的完整性。

因此，氮化硼陶瓷 (BN) 被广泛用于将溅射室中的等离子电弧限制在目标材料上，并防止工艺室中整体组件的腐蚀。

氮化硼（BN）等离子应用的主要产品包括用于制造PVD等离子室的电弧屏蔽和导向器、靶框、屏蔽罩和垫片。

同时，氮化硼陶瓷（BN）还用于以等离子为推进方式的轨道卫星和深空探测器的霍尔效应推力器。

Innovacera可提供纯氮化硼和复合氮化硼，包括BN+Si；BN+ZrO2。