熱分解窒化ホウ素（PBN）は先進的なセラミックスです。純度は99.99%で、六方晶窒化ホウ素等級に属します。それは化学蒸着プロセスによって生産され、固体を形成し、すべての窒化ホウ素結晶は蒸気蒸着の表面に平行に成長します。溶融炉、電気、マイクロ波、半導体素子の理想的な材料です。
熱分解窒化ホウ素るつぼの用途：
1.半導体単結晶とIII−V化合物の合成
2.異形及び定形黒鉛コーティング
3.GaAs、GaP単結晶の合成
4.化合物半導体をエピタキシャル成長させるために、ガリウム（Ga）及びアルミニウム（Al）を含む様々な材料を蒸発させる。
窒化ホウ素は純度が高く、粘着性がなく、耐用年数が長く、焼結窒化アルミニウム及び窒化シリコン基板の良好な選択です。また、焼結過程に汚染を与えることはありません。
六方晶窒化ホウ素は低い膨張係数と高い熱伝導率を持っているため、優れた耐熱振動性を持ち、2000℃で数百回循環しても損傷しないです。BNの膨張係数は石英に匹敵するが、熱伝導率は石英の10倍です。
窒化ホウ素の特徴：
これらのすべての特徴は、窒化ホウ素を焼結分野で非常に良い材料にします。当社の窒化ホウ素はDenka NB-1000と相当です。
当社の強み
酸化マグネシウムジルコニアセラミックスは、高い酸素イオン伝導率、高い強度と靭性、良好な熱衝撃耐性を有し、有望な高温機能と構造セラミックス材料です。酸化マグネシウムは安定剤として、立方相材料は微小な正方堆積物に堆積しているため、高い相変化靭性を持っています。
マグネシアジルコニアは破壊靭性が高いです。強度が高く、破断靭性が良く、耐摩耗性、熱伝導率が低く、熱衝撃に強いなど、優れた力学性能を持っています。その耐摩耗性、耐腐食性が良いため、主にバルブ、ポンプ、ガスケットなどに用いられ、化学加工や石油化学業界にも用いられています。
MgO-ZrO 2セラミックスの主な特徴：
MgO-ZrO 2セラミックスの主な用途：
技術セラミックス部品は半導体製造装置の不可欠な一部であり、技術セラミックス部品は純度が高く、微量金属含有量が低いことを意味し、これはそれらがCVD、PVD、プラズマエッチングとイオン注入のプロセスチャンバ材料または内部プロセス表面は、その強誘電性が非常に有益であるため、半導体産業に広く応用されています。
半導体業界は、アルミナセラミックス（AL 2 O 3）、窒化アルミニウム（ALN）、多孔質セラミックス、窒化ホウ素（BN）、熱分解窒化ホウ素（PBN）、炭化ケイ素（SiC）を含む先進的な技術セラミックスを使用しています。PBNは主に金属酸化物（MOCVD）堆積ツール中のるつぼに用いられ、主な単結晶成長方法はLECとVGFであるため、PBN LECとVGFつぼが必要です。PBN分子ビームエピタクシー（MBE）るつぼは、現在世界で最も重要なIII−V族およびII−VI族半導体結晶エピタキシャル成長プロセスの1つです。PBNるつぼは、このプロセスにおける蒸発元素と合成材料の最適な容器です。蒸発るつぼの周囲のPBNリングはOLED装置に使用されます。
半導体業界で多く使用されているセラミック部品は次の通りです：
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| PVD及びMOCVD装置用窒化ホウ素セラミック絶縁体部品。 | 多孔質セラミックスは真空チャックに広く用いられている。 | ICパッケージ用の金属化セラミックス部品。 |
アルミナセラミックと窒化アルミニウムは、通常、室内の静電チャックに使用されます。当社はエンドエフェクタ用のセラミックウエハ（一般にロボットの手と呼ばれる）を製造し、セラミックエンドエフェクタは良好な剛性と高強度を持っているため、ロボットアームはより早く最終位置まで安定することができます。エンドエフェクタは、位置間で半導体ウエハを処理したり移動したりするためのロボットアームの端を構成しています。
セラミック材料の選択は、曝露される堆積化学的性質に依存します。例えば、プラズマを使用する場合は、少なくとも99.5%のアルミナを使用しなければならないです。プラズマ耐食性は半導体製造装置における部品の主な特性です。
窒化アルミニウム（AlN）は共有結合化合物であり、六方晶ウルツ鉱構造、格子パラメータa=3.114及びc=4.986を有します。色は通常グレーであり、典型的なIII−Vワイドバンドギャップ半導体材料です。
窒化アルミニウムセラミックスは強度が高く、体積抵抗率が高く、絶縁耐圧が高く、熱膨張係数が大きく、シリコンとの整合性が良いなどの特徴があります。これらは半導体基板、セラミック電子基板、構造パッケージ材料に最適です。電子業界での潜在力は大きいです。
当社は2012年に設立された先進的なセラミック素子メーカーで、セラミック業界で豊富な経験を持ち、優秀なチームが製品の品質と検査を厳格に制御しています。デルは、製品を超えるカスタマイズソリューションを提供しています。私たちはお客様が協力関係を構築し、私たちと素晴らしい未来を創造することを心から歓迎します。
詳細については、次の方法でお問い合わせください：
窒化ホウ素は白黒鉛と呼ばれ、構造は黒鉛と似ており、良好な電気絶縁性、熱伝導性、優れた熱衝撃耐性と化学安定性を持っています。窒化ホウ素セラミックスは、窒化ホウ素粉末を顧客の要求する寸法規格に従って、熱圧焼結により製品ブロックに加工します。
動作温度が1500℃より明らかに高い高温炉の設計には、炭素、タングステンからなる加熱素子が採用されています。通常、これらの素子は高温酸化物セラミックスを用いて炉側と電気的に絶縁されています。
この分野では、チューブ、ガスケット、スリーブ、絶縁体、絶縁板、ボビン、フランジ、その他の高熱応力を受ける部品など、精密に加工された部品を提供することができます。
窒化アルミニウム（AlN） は高い熱伝導性と強い抵抗性を兼ね備え、AlNを多くの電子応用の絶好のソリューションにしました。通常も断熱性を有する電気絶縁材料の多くとは異なります。AlNは、最高効率を維持するために電気システムを急速に放熱することができます。
生産方法が異なるため、窒化アルミニウムには2種類があり、1つはAlNを直接焼結し、もう1つは熱圧AINで、それらの色も異なり、伝統的な色は灰色で、熱圧AINは黒色です。
窒化アルミニウムのメリット：
さらに興味がある場合は、お問い合わせください。
当社 ESD（静電気防止）安全多孔質セラミック真空チャック（ブラックとダークブラウン）はカスタマイズ可能であり、フィルム材料の自動処理や視覚検出に高性能な吸引力とクランプを提供します。半導体リソグラフィ技術とフラットパネルディスプレイOLED切断の要求を満たすことができます。
静電防止多孔質セラミック真空チャックのメリット：
当社のセラミック金属化プロセスは、セラミック部品の基層として、独自の厚膜マンガン/モリブデンとタングステンコーティングを使用しています。
この独自の技術は、ろう付けアセンブリ内の金属結合に湿潤性のあるセラミック表面を提供します。
酸化を防止し、金属化層が高温でセラミックスに焼結される濡れ性を高めるために、電解めっき層を用いてめっきを行いました。X線蛍光（XRF）技術を用いて金属化とニッケル厚さを測定し、所望の厚さ規格を満たすことを確保しました。
当社のチームは10年以上の業界経験を持ち、さまざまな応用方法に精通しており、アルミナセラミック素子、AlNセラミック基板上で金属化し、プロトタイプ設計から生産までを行います。
金属化の主な応用：
窒化ホウ素支持焼板は高純度99.7%窒化ホウ素セラミックスを用いて製造され、不活性ガス（2100°C）と真空（1900°C）環境中で高い動作温度を有します。それは優れた耐熱衝撃性を持ち、温度の突然の変化への応用に用いることができます。様々な溶融金属やガラスと反応したり濡れたりすることはありません。それは良好な電気絶縁体です。
窒化ホウ素高温焼結炉用セッター生産可能な最大寸法は500 mmx 500 mmであり、プレートに光孔、ねじ孔、溝または肩部を加工することができます。この分野では、精密加工された部品を提供することができます。
窒化ケイ素点火技術は、点火装置で一般的に使用されている新技術です。 セラミック着火装置（水晶着火装置としても知られる）の導入は、ペレット着火市場にとって非常に優れたソリューションです。
従来のセラミックライターに比べ、着火時間が60秒以下に短縮されます。 高温・高圧環境下での窒化ケイ素素材の特殊な特性に基づいており、高エネルギー・高信頼性の点火を実現します。 調理プロセスをスピードアップし、点火前の白煙の期間を最小限に抑えます。
本日、窒化ケイ素イグナイターを見てみましょう。
窒化ケイ素セラミックスは、高強度、耐高温性などの特徴があり、セラミックス材料の中で最も総合的な機械的特性が優れている材料です。
熱衝撃、酸化、摩耗、腐食に対する耐性も優れているため、熱機関部品に使用されるセラミックスの候補として第3位に選ばれています。 伝統的な分野では、窒化ケイ素セラミックスはベアリングボール、ローラー、軌道面、工具金型、ニューセラミック切削工具、ポンププランジャー、スピンドルシール材などに使用されています。
窒化ケイ素の熱伝導率と誘電特性は、調製プロセスの改善により著しく向上し、電気加熱や熱伝導基板の分野に応用することができます。 湯沸かし器の発熱体として使用され、その高い熱伝導性により、加熱媒体に迅速に熱を伝えることができ、良好な熱機械特性と絶縁特性により、安全性が確保されます。 あらゆる種類の瞬間加熱、貯水、サーモスタットに広く使用できます。 また、工業用加熱源や特殊な液体加熱断熱装置としても使用できます。
製品の案内：
窒化ケイ素セラミック点火器は、直接熱伝達または送風熱伝達によって燃料に点火するために数十秒で800〜1000℃まで加熱することができます。 点火棒は損傷からターミナルを保護するために温度緩衝装置が装備されています。 ワイヤー接合部の絶縁ラッピングは、導電性灰による短絡を効果的に防止します。 適切な取り付け方法と点火手順により、窒化ケイ素セラミック点火棒は数年間安全に使用できます。
規格：
| 急速加熱 | 加熱が速くて、30秒で1000℃まで加熱できます。 |
| 温度範囲 | 1100~1200 °C |
| 小型・高出力密度 | 高い熱効率を実現する高電力密度放電です。 |
| 高い断熱性 | |
| 水とパラフィンを直接加熱 | |
| 真空環境 | |
| 耐酸化・耐薬品性 | |
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最高品質の窒化ケイ素点火装置、バイオマスペレットストーブ用セラミック点火装置、バーベキュー用点火装置を提供します。
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| 品番 | 材料 | 電圧 電力 |
尺寸 | セラミック・ソケット | 電線 | |
| セラミック | メタルキット | |||||
| INC-H6 | 窒化ケイ素 | 230V 300W | 90*10.8*3.9mm | OD17.5*32 | – | 300-500mm
長さおよびタイプはカスタマイズ可能です |
窒化ケイ素イグナイターのメリット：
– 灰やパイプホルダーに触れてもショートしないです。
– 水晶着火剤は、セラミックライターに比べ、機械的衝撃に2倍強いです。
– 燃焼粒子に対する耐性が高いです。
– 10秒で1000°以上に達する黒色水晶点火装置（キャンドル、ライター）は、石英点火装置とも呼ばれ、ペレットやその他のバイオマスボイラーを燃焼するための新世代です。
– メンテナンスが簡単です。
用途：
1.バイオマスボイラーの点火、わら焼却炉の点火
2.ガス、石油（天然ガスなど）の点火
3.自動車排気ガス、産業廃棄物ガス処理
4.ガス暖房（空気、作動ガス）
5.花火の発電機
6.ろう付け装置
7.腐食性環境ヒーター
8.研究室の特別な発熱体、暖房装置のカスタム化
9.金型・工具加熱
10.バーベキューの炭の点火装置
バイオマスボイラー用 300W 黒水晶イグナイター 使用上のご注意
-本製品は工業用です。
-電圧制御には可変トランスを、温度制御にはサーモスタットをご使用ください。
-ヒーターは大気圧でご使用ください。
-電線コネクタに無理な外力（引き伸ばし、折り曲げ等）を加えないでください。
-ヒーターの材質は窒化ケイ素（セラミック）ですので、落としたりぶつけたりすると割れることがありますので、取り扱いには注意してください。
-ヒーターの接続に使用するインシュレーター部は確実に固定してください。 また、締め過ぎは破損の原因となりますのでご注意ください。
当社の強み
1. 工場/メーカー
2.150から200オンライン従業員以上
3.カスタマイズ歓迎
4.ヒーター点火装置の毎月の生産能力: 550,000
5.利用可能なモデルのための速い受渡し時間：1-3日
カッティングエッジのラピッドイグナイターを使えば、わずか90秒でペレットグリルに火をつけることができます。 詳しくはお気軽にお問い合わせください。
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