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注入机半导体工艺设备用电气绝缘氧化铝陶瓷零件

氧化铝陶瓷零件因其优异的电绝缘性能、高导热性和机械强度而被广泛应用于半导体工艺设备。在半导体制造中,氧化铝陶瓷零件在注入机设备中尤为重要。

 

氧化铝陶瓷基体

 

注入机设备用于离子注入,这是半导体制造中的一项关键工艺,其中离子被加速并注入基板以改变其性能。

 

注入机中使用的氧化铝陶瓷部件包括绝缘体、晶圆和支撑结构,均设计用于承受离子注入工艺中典型的高温和腐蚀性环境:

 

  • 陶瓷晶圆载体:在离子注入过程中固定和支撑晶圆。
  • 陶瓷绝缘环:防止漏电,确保安全。
  • 各种馈通:在保持真空完整性的同时为电信号提供通路。

氧化铝陶瓷基座

 

氧化铝陶瓷零件 优点:

    • 高电绝缘性
    • 防止漏电并确保半导体工艺的安全
    • 良好的热导率
  • 防止半导体元件过热
  • 优异的机械强度
  • 耐磨损
  • 确保在苛刻的半导体环境中的使用寿命和耐用性
  • 化学稳定性和耐腐蚀性。
  • 可以加工成超高精度公差
  • 确保半导体应用中的精确和可靠的性能
  • 与半导体工艺中使用的其他材料不发生反应

 

氧化铝陶瓷基座

 

99.5% 氧化铝陶瓷零件 性质:

 氧化铝陶瓷材料性质
性质
主要成分 Al2O3>99.5%
密度 >3.95
硬度(Gpa) 15~16
室温电阻率(Ω·cm) 14
最高使用温度(℃) 900.00
三点弯曲强度(MPA) 450.00
抗压强度(MPA) 45.00
杨氏弹性模量(Gpa) 300-380
热膨胀系数(20-1000℃)(10-6/K) 6~8
热导率(W/m·k) 30.00
介电强度(kv/mm) 18.00
介电常数 9~10
介电损耗角(*10-4) 2.00
表面粗糙度 <Ra0.05um
备注:该数值仅供参考,不同使用条件会有少许差异。

 

氧化铝陶瓷零件在半导体工艺设备中的应用,尤其是注入机,使得氧化铝陶瓷材料成为半导体工业中不可缺少的材料。 氧化铝陶瓷底座、氧化铝陶瓷喷嘴等氧化铝注入机陶瓷部件确保了半导体制造工艺的可靠性、精确度和长使用寿命。


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