technical ceramic solutions

陶瓷通孔 (TCV) 互连技术简介

陶瓷通孔(TCV)互连技术是高密度三维封装的一种创新方法。传统的陶瓷基板金属化方案经常遇到孔内液体残留、附着力差、铜填充不完整等问题。而TCV技术采用铜浆填充陶瓷通孔的方法,工艺简单、填充完整、附着力强、成本低廉。

 

Innovacera采用微纳复合材料组成的烧结铜浆,具有良好的导电性和可靠性。通过加入高温粘结剂和特殊填料,可以进一步调节铜通孔和界面的热膨胀系数,实现高可靠性的铜通孔连接。

 

TCV工艺流程图

TCV工艺流程图

 

工艺特点:

– 深径比范围广,膏体流动性好,可完全粘附在孔壁上。

– 干法工艺,消除镀铜化学残留。

– 工艺效率高,所有孔仅通过印刷即可完全填充。

– 可靠性高,热膨胀系数可调。

– 真空填充工艺效率高、质量高、成本低。

– 实现大电流的有效传导,电阻率接近纯铜。

– 通过低热膨胀系数的通孔铜和界面层实现高可靠性。

 

工艺优势:

1.介电常数小,高频特性优异,减少信号延迟时间。

2.热膨胀系数更接近硅,无机基板材料一般比有机基板材料热膨胀系数低。

3.耐热性强,无机基板材料的玻璃化转变温度高于有机基板材料,在热冲击和循环过程中不易损坏。

4.热导率高,可高效散发高密度封装产生的热量。

5.机械强度高,尺寸稳定性好,确保元件安装精度高。

6.化学稳定性强,加工过程中可抵抗酸、碱、有机溶剂的腐蚀,不会发生变色、膨胀等特性变化。

7.绝缘性能优异,确保高可靠性。

 

处理能力:

 

基材 氧化铝 氮化铝
热膨胀系数 6.8 ppm/K 4.7 ppm/K
热导率 23 W/m·K 170 W/m·K
尺寸 <182 x 182 mm <120 x 120 mm
厚度 0.25 – 1 mm 0.15 – 0.63 mm
孔径 >60 μm >60 μm
深度与直径之比 <10:1 <10:1
孔间距 >0.1 mm >0.1 mm

 

 

应用:

 

– 大功率电力电子模块、高频开关电源太阳能电池板组件、固态继电器。

– 汽车电子、激光器、CMOS图像传感器。

– 大功率LED照明产品。

– 通信天线、汽车点火系统。

 

陶瓷通孔

带铜的陶瓷

陶瓷基板

 

 

如果您对上述材料技术感兴趣,欢迎致电 +86-592 5589730 或发送电子邮件至 sales@innovacera.com 与我们联系,进行进一步讨论和沟通。我们期待您的来电!

 

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